近来，由武汉理工大学与江汉大学、长沙学院一起举行的首届石墨烯和C3N4光催化资料世界学术研讨会（International Workshop on Graphene and C3N4-based Photocatalysts，简称IWGCP）在校举行，会议主席由武汉理工大学资料复合新技能国家重点实验室余家国教授和美国肯特州立大学（Kent State University，USA）化学系的Mietek Jaroniec教授担任，来自美国、澳大利亚、德国等11个国家和地区的140多位专家学者及相关范畴的师生参与。

  开幕式上，余家国教授对本次会议参会代表和资助方表明了欢迎和感谢，介绍了本次世界学术研讨会的举行意图和会议流程。本次会议旨在为本范畴来自不同国家和地区的专家和同行们供给一个彼此沟通和学习的渠道，并经过总结现在石墨烯和C3N4光催化资料的研讨成果，为未来光催化资料制备技能和使用指明发展方向。

  在为期4天的学术研讨会上，与会代表就石墨烯基光催化资料、C3N4基光催化资料、C3N4光催化资料的外表润饰、石墨烯和C3N4基光催化资料的第一性原理核算、光催化分化水产氢或产氧、光催化资料的光电化学性质、光催化资料在环境净化中的使用、光催化二氧化碳复原和染料敏化太阳能电池以及其它光催化资料等专题进行了深化和广泛的沟通。本次会议共做大会陈述8场，主题陈述17场，约请陈述11场，口头陈述6场，墙报展现68个，出书会议摘要论文集1本。经本次会议的世界参谋委员会投票决定，评选出优异墙报奖5个，并向获奖的作者颁发了证书和奖金。活动期间，北京泊菲莱科技有限公司等仪器商还展现了用于光催化研讨的产品。

  据悉，会议组织者将承受参会人员的全文投稿，满意宣布要求的论文将宣布在SCI录入期刊Applied Surface Science(ASS，使用外表科学，影响因子2.538，依据2014年JCR期刊影响因子及分区状况，中科院SCI期刊分区表显现，ASS归于2区期刊)的“Graphene and C3N4-based Photocatalysts”(石墨烯和C3N4光催化剂)专辑上。

  2015年复合资料（SMC/BMC GMT/LFTD）模压成型技能创新和商场开发使用研讨会